多晶硅、单晶硅生产废水在电子半导体工业生产过程产生的废水。多晶硅生产和研磨过程中产生的废水水量较大、传统方法处理后出水的有毒有害金属离子、氟等不能稳定达标,对水资源环境造成的污染日益严重,同时由于我国水资源时空分布极不均匀,随着城市用水量的逐渐增大,水资源短缺越来越严重,如处理后水直接排放,浪费了宝贵的水资源.水回用势在必行,水回用具有极高的社会效益和环境效益,它一方面可以减少环境排污量,减少环境污染。未回收利用的氯硅烷低沸物和氯化氢、提纯分离塔的不凝气体、还原炉开停炉置换尾气、各系统检修时的置换尾气等工艺废气经尾气淋洗塔淋洗处理产生的酸性废水,其水量与工艺废气的排放量、氯硅烷和氯化氢的浓度有直接关系。为确保处理后的废气达标排放,工艺废气的排放量或其中的氯硅烷、氯化氢浓度越大,产生的废水量越大。这部分废水是多晶硅生产废水的主要组成部分,一般占多晶硅生产废水总量的90%以上,其主要污染物为盐酸和氯硅烷水解产生的Si02等,经人工或机械刮捞后的酸性废水沿地沟或管道排入废水站调节池。 多晶硅生产废水处理简介 1、药剂配制 (1)石灰乳的配制。石灰乳搅拌槽注入一定容积的回用水,缓慢加入ca(OH)2含量大于70%的200目石灰粉并不断搅拌,配制成20%的石灰乳溶液。两组石灰乳搅拌槽,一套配制一套使用,相互交替运行。 (2)PAC溶液的配制。A120,含量>30%、盐基度>80%的PAC按比例缓慢投加到用回用水定容的PAC溶解配置搅拌槽中,不断搅拌配制成5%的PAc溶液,打开放液阀,使配制好的PAc溶液进入溶液槽中供处理系统使用,两组溶液槽一组配制一组使用。 (3)PAM溶液的配制。向PAM配制搅拌槽注入一定量回用水,启动搅拌机,人工缓缓向槽内投加分子量>l 200万的阳离子高效絮凝剂PAM,充分搅拌使其溶解配制成5%o的PAM溶液,打开放液阀,分别向两个溶液槽注入一定量的5%oPAM溶液,启动溶液槽搅拌机,向溶液槽内加回用水并充分搅拌完全溶解配制成0.5‰的药液,两组PAM溶液槽,一组使用一组配制,交替运行。在药剂的配制和使用过程中,为避免药液沉淀或结胶,要保持搅拌机连续运行。 2、中和 3、混合 4、絮凝沉淀 5、污泥处理 |